ASML为了提高EUV光刻机的产能，计划在2030年给EUV光刻机的光源增加400W，把生产速度提高50%，从每小时220片提升到330片。这相当于把成本降低30%，意味着原本要用3000亿元才能实现的事情，现在花2100亿元就能做到。这一招目的很明确，就是逼着台积电这样的厂商换掉现有的旧机器。之前台积电对于换新机器一直很犹豫，因为每台High EUV机器价值4亿美元，要是把上百台旧的全换掉，就要花掉近3000亿元。台积电觉得这种投入太大，所以表态说2nm和1.4nm芯片都不用换代，能用NA=0.33的就将就用。 其实EUV光刻机从问世到现在已经十多年了，技术上已经更新了好几代。第一代是NA=0.33的普通EUV光刻机，第二代是NA=0.55的High EUV光刻机。ASML之前的计划是把NA=0.33的机器用到2nm芯片就差不多了，之后就得换成NA=0.55的机器。而且他们还打算推出NA=0.75的Hyper EUV系统，一代一代升级下去。因为NA越大分辨率越高，像台积电、三星和英特尔这些厂商不得不跟着不断换机器。 不过这次ASML想了个新办法来试探口风：先不说一下子到位，而是给个时间表说要等到2030年才能全部实现。如果台积电表示对这个新技术感兴趣，愿意买新机器，ASML就会抓紧时间早点落地。如果大家都觉得投入几千亿换机器划不来，那ASML肯定还会想别的招数。总之就是要逼着那些不愿意换的老款EUV钉子户赶紧掏钱换机器，要不然ASML自己怎么赚钱？