光刻机对咱们半导体产业来说，真的是生死攸关。眼下的处境那叫一个惨，全球市场里中国厂商只有0.2%的份额，手里的货更是只有不到1%。这玩意儿技术门槛太高了，国内跟国际水平差了何止十年？美国卡脖子更是雪上加霜，别说最先进的EUV，就连DUV都不给卖。ASML以前就说过，卖给咱们的设备跟他们自家用的比，至少得差10年。你想想这得有多痛！其实还有两个数据能让你直观感受到这份绝望：第一，全球市场格局里，ASML、尼康、佳能这三大洋品牌占了100%，咱们就像小透明一样只有0.2%。第二，国产设备的自给率不到1%，虽然封测领域用的光刻机国产比例可能超过了30%，但做芯片前道的那一块真的不行，还没超过1%。 现在晶圆厂用的设备几乎全靠进口，花大钱买ASML的高端货占了总金额的80%，买日本货就多是低端设备占20%。这种被掐着脖子的日子真没法过！那国产到底行不行呢？上海微电子的公开资料显示咱们已经摸到了ArF的门槛，精度到了90nm。有网友说多拍几次能达到28nm，但这事儿存疑。之前曝光的一台氟化氩设备挺厉害，分辨率不到65nm，波长193nm，套刻精度小于等于8nm。其实这已经离浸润式DUV只有一步之遥了。但这一步太难跨过去啊！要是真能搞定浸润式，局面肯定会焕然一新。